产品描述
Aridus3 膜去溶雾化系统采用低流量、微量雾化器,只需极低量样品就能分析所有元素,同时系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品,独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。
技术参数
可移动的模块化膜去溶设计,拆装和清洗方便
带盖保护的PFA雾化室,避免静电干扰
特有膜去溶技术,有效减少溶剂对ICP-MS的干扰,显著降低氧化物和氢化物水平
大大改善信号的稳定性,即使是有机溶剂(如甲醇)
提高ICP-MS的灵敏度4-10倍以上
可选配QuickWash3清洗装置,有效抑制记忆效应
采用质量流量控制器(MFC)精准控制气体流量
可通过Aridus Link软件远程控制加热温度和气体流速
实验完成后可启动气体自动关闭程序,大大节约氩气成本
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