EN
Aridus3
膜去溶雾化系统

Aridus3 膜去溶雾化系统采用低流量、微量雾化器,只需极低量样品就能分析所有元素,同时系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品,独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。

立即咨询
021-62088010
更新时间:2021-06-25
PRODUCT OVERVIEW

产品描述

Aridus3 膜去溶雾化系统采用低流量、微量雾化器,只需极低量样品就能分析所有元素,同时系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品,独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。

technical parameters

技术参数

  • 可移动的模块化膜去溶设计,拆装和清洗方便

  • 带盖保护的PFA雾化室,避免静电干扰

  • 特有膜去溶技术,有效减少溶剂对ICP-MS的干扰,显著降低氧化物和氢化物水平

  • 大大改善信号的稳定性,即使是有机溶剂(如甲醇)

  • 提高ICP-MS的灵敏度4-10倍以上

  • 可选配QuickWash3清洗装置,有效抑制记忆效应

  • 采用质量流量控制器(MFC)精准控制气体流量

  • 可通过Aridus Link软件远程控制加热温度和气体流速

  • 实验完成后可启动气体自动关闭程序,大大节约氩气成本

服务热线

021-62088010
  • 地址:上海市徐汇区钦州北路1199号智汇园88栋4楼, 200233
  • 传真:021-62191934

其他联系方式